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半导体超纯水制备,优选杜邦UP6150抛光树脂

发布时间:2026-01-29 17:19:57人气:4

在半导体芯片制造领域,超纯水被誉为“工业血液”,其水质纯度直接决定晶圆良率与芯片性能。作为国内半导体产业的领军企业,中芯国际在先进制程研发与规模化生产中,对超纯水的纯度要求达到行业严苛标准。杜邦AmberTec™UP6150抛光树脂凭其出色的除杂性能、稳定的运行表现,成为超纯水制备终端精处理环节的优选方案,为芯片制造筑牢水质保障防线。本文将为您详细介绍半导体超纯水制备方案相关内容。

 杜邦UP65150-桶装-(1).jpg

一、半导体行业用水现状与水质核心需求

当前半导体行业正朝着3nm、5nm等先进制程加速迭代,制程线宽不断缩减,对超纯水的杂质控制要求愈发严苛。数据显示,每片300mm晶圆在制造过程中需消耗约5000升超纯水,且需经历超过100次清洗步骤,任何微量杂质都可能导致电路缺陷、电性能异常,甚至整批晶圆报废。

从行业用水现状来看,传统超纯水制备工艺在终端精处理环节易出现水质波动、运行周期短等问题。尤其是再生树脂的转型率不足、均一性较差,导致产水TOC超标、电阻率不稳定,难以匹配先进制程的长期稳定生产需求。。

 

二、技术方案选型:杜邦UP6150抛光树脂的核心优势与对比

针对芯片的超纯水制备需求,经过多轮技术验证与方案对比,最终选定杜邦AmberTec™UP6150 H/OH均粒混床抛光树脂作为终端精处理核心材料。该方案相较于传统抛光树脂方案,在性能、稳定性与经济性上均展现突出优势。

从产品特性来看,杜邦UP6150是完全再生的均粒混床离子交换树脂,由强酸阳离子树脂与强碱阴离子树脂按1:1化学计量当量混合,阳离子转型率≥99%,阴离子转型率≥95%,无抱团现象。其均粒特性可最大化运行周期内的动力学性能,确保在反渗透后续精处理中快速高效去除残余离子、有机物等杂质。对比传统非均粒树脂,UP6150的均一系数≤1.25,颗粒尺寸分布更集中,可减少床层压降波动,延长运行周期。

在关键性能指标对比中,杜邦UP6150表现突出:经超纯水冲洗10分钟后电阻率即可达到>17.9MΩ·cm,冲洗2小时后ΔTOC≤10ppb,在设计合理的系统中可稳定产出电阻率≥18MΩ·cm、TOC远低于5ppb的超纯水,完全满足芯片先进制程的水质要求。而传统抛光树脂往往需要更长冲洗时间才能达到合格水质,且运行后期易出现电阻率衰减、TOC反弹等问题,增加了制程风险与运维成本。此外,UP6150适配15-25℃的常规运行温度与宽pH范围,在芯片现有超纯水系统中无需额外改造即可适配,兼容性更强。

 

三、杜邦UP6150方案的核心优势:适配半导体高端制造需求

1.极致除杂性能

杜邦UP6150凭借高转型率与均粒结构,可高效去除水中微量金属离子、可溶性有机物及残余盐分,产水金属离子含量稳定控制在0.1ppt以下,从源头避免杂质对晶圆电路的污染。在芯片7nm制程产线的应用中,该方案有效解决了传统工艺中金属离子残留导致的电迁移问题,晶圆良率提升明显。

2.运行稳定可靠

UP6150在首个运行周期即可实现优异性能,且运行周期较传统树脂延长30%以上,减少了树脂更换频次与停机维护时间。其均粒特性使床层压降稳定,冲洗水耗量降低,结合可分离再生的特性,进一步降低了耗材损耗与运行成本。芯片超纯水系统采用该树脂后,终端精处理环节的运维成本降低约25%,大大提升系统连续运行稳定性。

3.定制化适配

针对芯片不同制程产线的水质差异,杜邦提供定制化的树脂配比与系统优化方案。对于28nm等成熟制程,可通过调整运行参数平衡水质与成本;对于7nm先进制程,则严格把控树脂批次稳定性,确保产水水质波动极小。同时,杜邦完善的技术支持体系可实时响应运维需求,保障系统长期稳定运行。

 

四、应用案例分析:助力芯片超纯水系统升级

在芯片北京大兴厂区的超纯水制备项目中,该项目采用“UF-RO-抛光混床”的核心工艺,以市政再生水为水源,经深度处理后为12寸晶圆产线提供超纯水。其中终端精处理环节选用杜邦UP6150抛光树脂,替代原有传统再生树脂方案。

项目运行数据显示,采用UP6150方案后,超纯水产水电阻率稳定维持在18MΩ·cm,TOC含量长期低于3ppb,颗粒与金属离子指标均满足7nm制程内控要求。系统连续运行6个月无停机维护,树脂运行周期达到8个月,较原方案延长40%;冲洗水耗量减少20%,年节约水资源约3万吨。该方案的应用不仅保障了先进制程的稳定生产,还实现了污水资源化的高效利用,兼顾了生产效益与生态效益。

在芯片上海临港厂区的扩产项目中,杜邦UP6150抛光树脂再次被选定为终端精处理核心材料,凭其优异的兼容性与稳定性,快速完成系统调试并投入运行,为新产线的顺利投产提供了可靠的水质保障。

 超纯水设备工艺流程图.jpg

超纯水制备的纯度与稳定性,是半导体先进制程突破的关键支撑。杜邦AmberTec™UP6150抛光树脂凭其出色的除杂性能、稳定的运行表现与定制化适配能力,成功助力芯片解决多制程产线的超纯水精处理难题,为芯片制造筑牢水质防线。您若想进一步了解半导体超纯水制备方案相关资料、报价、案例,可直接联系蓝膜华东区域客户经理17818561307(微信同号)。

 

 

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